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                          氯化氫
                          氯化氫
                          +
                          • 氯化氫
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                          氯化氫

                          化學式:HCl

                          純度規(guī)格:5N

                          用途:清洗、刻蝕

                          主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

                          電話:

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                          產品詳情

                          氯化氫純度可達5N5,主要應用于大規(guī)模集成電路清洗、刻蝕工藝。

                          以品質為基石,開拓全球市場

                          目前,派瑞特氣公司擁有單條年產能超過3000噸的高純三氟化氮氣體生產線,擁有高純六氟化鎢規(guī)模化生產線,擁有三氟甲磺酸系列產品研發(fā)生產基地,建設了高純鎢制品中試生產線,實現(xiàn)了企業(yè)大宗制氣的技術突破,已成為國內特氣行業(yè)產品系列豐富、生產能力大、市場覆蓋面和占有率高、持續(xù)創(chuàng)新能力強的企業(yè)。

                          以品質為基石,開拓全球市場 以品質為基石,開拓全球市場 以品質為基石,開拓全球市場

                           

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                          推薦產品

                          公司主要從事電子特種氣體及三氟甲磺酸系列產品的研發(fā)、生產和銷售,主要產品包括高純三氟化氮、高純六氟化鎢、高純氯化氫、高純氟化氫、高純四氟化硅、高純氘氣、高純六氟丁二烯、高純八氟環(huán)丁烷、高純電子混合氣等電子特種氣體,以及三氟甲磺酸、三氟甲磺酸酐、雙(三氟甲磺酰)亞胺鋰等含氟新材料。


                          三氟化氮

                          化學式:NF3

                          純度規(guī)格:5N

                          主要用途:清洗、刻蝕

                          主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、 顯示面板


                          氯化氫

                          化學式:HCl

                          純度規(guī)格:5N

                          用途:清洗、刻蝕

                          主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


                          氦氮混氣、氙氫混氣、氧氦混氣、氪氖混氣、氬氙氖混氣等

                          純度規(guī)格:6N

                          用途:刻蝕、退火、光刻等

                          主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、顯示面板、光纖


                          氟化氫

                          化學式:HF

                          純度規(guī)格:5N

                          用途:清洗、刻蝕

                          主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)